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                      HMDS涂布機,HMDS涂膠烤箱

                      HMDS涂布機,HMDS涂膠烤箱

                      簡要描述:

                      HMDS涂布機,HMDS涂膠烤箱用于光刻工藝中基板疏水化處理, HMDS 涂布的原理,較常用的黏附劑是六甲基二硅胺烷(HMDS)。在提升光刻膠的黏附性工藝中,實際上六甲基二硅烷并不是作為粘結劑所產生作用的,而是HMDS 改變了 SiO2 的界面結構,從而使晶圓的性質由親水性表面轉變為疏水性表面。

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                      HMDS涂布機,HMDS涂膠烤箱原理:

                         HMDS涂膠烤箱用于光刻工藝中基板疏水化處理, HMDS 涂布的原理,常用的黏附劑是六甲基二硅胺烷(HMDS)。在提升光刻膠的黏附性工藝中,實際上六甲基二硅烷并不是作為粘結劑所產生作用的,而是HMDS 改變了 SiO2 的界面結構,從而使晶圓的性質由親水性表面轉變為疏水性表面。

                         光刻膠與晶圓表面之間的黏附性問題,除了受到分子鍵合的影響,還受到其他重要因素的影響。如表面的水分就是其中的主要因素,會減少黏附性,從而造成掀膠和側向腐蝕。HMDS 涂布是涂膠前對硅片表面進行處理,可以增加硅片表面水分子的接觸角,使硅片表面從親水性轉化為疏水性。

                         HMDS 涂布機采用蒸汽涂布的方式。簡單評價晶圓的表面黏附性好壞,可以將晶圓進行 HMDS 涂布,然后在晶圓的表面滴一滴水珠,然后通過測量水珠的接觸角,來進行晶圓表面黏附性好壞的判斷。接觸角的測量方法如下圖所示,當接觸角角度越大,說明黏附性越好,也就意味著疏水性越強。

                      HMDS涂布機,HMDS涂膠烤箱技術參數:

                       

                      項目

                      雋思JS-HMDS90-AI

                      內膽大小 

                      450*450*450(可選數據)

                      cycle run(4寸產品)

                      200

                      溫度范圍 

                      室溫+10-250 

                      HMDS加熱功能 

                       

                      HMDS流量控制 

                      時間/調壓閥,無flow meter

                      尾氣排放 

                       

                      溫度精度 

                      分辨率:0.1 波動度:±1℃

                      真空泵 

                      油泵或愛德華干泵,133PA  

                      載物托架 

                      兩層 

                      溫度控制 

                      微電腦智能控溫儀 

                      Recipe設定 

                      人機交互界面,PLC編程 

                      N2循環 

                      真空/N2 循環 

                      HMDS系統 

                      自動添加、自動吸取、添加量控制

                      保護裝置 

                      緊急停止,跳電保護,超溫保護

                      其他

                      耐高溫手套,說明書

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